· 設備簡介：

     PIS系列純離子鍍膜設備主要是集純離子鍍膜技術(PIC)、高能離子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射技術(SPUTTER)三種技術融合于一體，其獨有的純離子鍍膜源核心技術，利用高效的電磁過濾系統和電磁掃描系統有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團等雜質，大幅度提高等離子束流純度，使膜層更加致密硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優異。可鍍制厚度范圍從幾百納米到二十多微米的類金剛石膜層。

· 產品特點：

>核心技術、低溫鍍膜、高效過濾；

>均勻性控制 +5% 以內、工藝成熟；

>膜層性能優越：硬度高、摩擦系數低；

>多種膜層系列、可大批量高效率生產等。

· 膜層類型：

· 應用領域：

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結果