PVD鍍膜 IS-PM貴金屬鍍膜設備
一、設備簡介
IS-PM系列貴金屬薄膜專用鍍膜設備采用雙腔室結構設計，工藝腔+裝/卸載腔，是工藝可靠性與制程效率的完美融合。
★模塊化通用接口，直接兼容不同形式陰極靶材，允許直流脈沖、中頻、射頻工作模式，兼容性強。
★特殊設計的磁場及工藝氣路，有效提升靶材利用率以及長期工藝穩定性。
★雙腔室結構設計，既保障了工藝過程的穩定性與一致性，又極大縮短了鍍膜前處理時間，提高生產效率。
二、設備參數
IS系列貴金屬鍍膜設備參數 | |
裝載腔室 工藝腔室 | 494*475*510（mm） 516*475*530（mm） |
極限真空 | ＜5.0*10-5 Pa |
Zui高溫度 | ＜500℃（工件加溫） |
涂層區域 | Φ45*60（工件Zui大尺寸） |
控制系統 | ·全自動工藝控制軟件 |
設備尺寸 | 2700*2280*2770（mm） |
功率 | 20KW |
注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據
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