PVD納米涂層的主要生產工藝：

蒸鍍：在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜。但應用受限，因為蒸鍍不適用高熔點材料（如鉬、鎢）、低硬度材料（如非金屬材料）以及非導電材料等。

濺鍍：原理是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，沉積到基層表面形成膜層。特點為顆粒細小（可用于光學級別鍍膜）、鍍層均勻（可實現高精度鍍膜）、結合力高（與基體間的結合力高）。

離子鍍：是蒸鍍和濺鍍結合的一種鍍膜技術，原理是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜。

TAC涂層是一種無氫碳元素涂層，其sp3與sp2鍵的比值較高。與DLC涂層相比，ta-C膜層具有更高的硬度和抗溫性能，并可顯著降低摩擦系數。因為此類涂層具有非常高的硬度及非常好的耐摩擦性能。無氫類金剛石涂層結合某些潤滑劑能夠顯著減少摩擦，例如在尼桑汽車的發動機氣閥機構上就有此類技術的應用。此類DLC涂層一般通過石墨靶的電弧蒸發來獲得。涂層的特點是具有非常高的硬度值，一般在4000～7000HV，并且幾乎不含氫。常把此類涂層叫做無氫類DLC涂層。在ta-C類DLC涂層中，碳原子以類似水晶體4晶點結構（四面體）為主體。

TAC涂層有以下突出特點：

維氏硬度可達5000~7000HV，硬度較高。具有一定的透明度，當涂層厚度小于1微米時，工件會由于光干涉作用而呈現彩虹色彩。隨著涂層厚度的增加，顏色會變為灰黑色。具有良好的抗粘結性和高硬度，使其在模具和切削工具行業發揮著重要的作用。摩擦系數低，可顯著降低摩擦系數，改善發動機效率，減少燃油消耗和CO?排放。

Ta-C涂層的制備

純源公司研發Ta-C類金剛石涂層將其應用到工業領域。他是由純源公司自主研發的純離子鍍膜設備制成。純離子鍍膜設備具備高效的電磁掃描和過濾系統，可將等離子體中的雜質顆粒、宏觀粒子、大型離子團等過濾干凈，經過磁過濾后沉積粒子的離化率為百分之百，并且可以過濾掉大顆粒，制備的納米薄膜非常致密和平整光滑，抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強，在均勻性、致密性、結合度、硬度、摩擦系數、改變物質表面結構和消除薄膜顆粒等方面取得里程碑式的突破。

適用產品：

交通工具領域：活塞環、活塞銷、針閥、活塞等；

紡織領域：織針、筘片、鋼筘、梭子頭；

工模具/刀具：PCB鉆頭，銑刀、成型刀、鈹銅模具、成型模具、注塑模具、封裝模具等；  

機械零部件：油封套、閥桿、各類機械設備耐磨零件。

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室檢測數據