PIS系列純離子鍍膜設備是集純離子鍍膜技術(PIC)、高能離子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射技術(SPUTTER)三種技術融合于一體，其獨有的純離子鍍膜源技術，利用高效的電磁過濾系統和電磁掃描系統有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團等雜質，大幅度提高等離子束流純度，使膜層更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優異。可以鍍制厚度范圍從幾百納米到二十多微米的超級類金剛石Ta-C膜層。

PIS系列設備采用高效的電磁過濾器，可以有效過濾顆粒及雜質，創新設計的弧源，應用了新的技術突破確保弧源長期穩定工作;

采用純離子低溫鍍膜工藝，鍍膜過程控制在150°C以下，可避免熱應力和基材變形;制備的Ta-C膜層中金剛石相(SP3鍵)可以達到75%以上的，其物理化學性質和金剛石極其類似，薄膜具有極高的硬度>5000HV(>50GPa),極低的摩擦系數(<0.1)，光學透明度等一系列優異特征，可大幅度提高涂層產品使用壽命;

制備的Ta-C膜層擁有良好的抗砂石、抗結冰、抗粘連、抗腐蝕能力，有利于零部件在惡劣環境下長期服役;全自動智能化工藝操作系統，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調用能力，配備實時工藝參數監控系統，允許工程師在線控制。

全自動智能化工藝操作系統，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調用能力，配備實時工藝參數監控系統，允許工程師在線控制。

應用領域：

工模具：切削刀具、注塑模具等；交通工具：發動機關鍵零部件；紡織配件、醫療器械等

注明：以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室檢測數據