PVD純離子鍍膜--氮化物涂層
涂層名稱 | 涂層成份 | 結構 | 顯微硬度(HV) | 沉積溫度范圍 | 摩擦系數 | 厚度(μm) | ?主要應用 |
Pi-N | CrN、TiN、CrAlN、TiALN等 | 復合層 | 2000-3500 | <400℃ | ≈0.4 | 0.5-5 | 工模具、刀具、3C、功能性裝飾等 |
注明:以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據
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Pi-N | CrN、TiN、CrAlN、TiALN等 | 復合層 | 2000-3500 | <400℃ | ≈0.4 | 0.5-5 | 工模具、刀具、3C、功能性裝飾等 |
注明:以上數據來源于安徽純源鍍膜科技有限公司- 材料實驗室檢測數據